图6曲线1、2、3中Do、t,d与图3相同图74径与Dl、d2、ri的关系或V形座上，在垂直于螺母轴线的水平方向上加20一25kgf力，使滚珠紧贴在螺母一侧，[并将千分表测端靠在螺母水平线上，然后，反方向加同样的力，分别得出前后两次千分表的读数，读数之差即为丝杠副的径向间隙。1以类似的方法，在螺母轴向方向加20,t,25Kgf力和分别读出两次千分表的读数值，即可得出其轴向间隙。实测的△径，加上计量工具误差之后得△径’，再加上4r，代入式(5)中的(D，一d。)得：1，2一亍(厶径’+4r1)COSa=——_!————一(8) r2一r1求出口值(见图T)。若将前述测得的△轴代入(i)得出口值，测试值与实际的口会有一定的误差。这是因为滚珠在滚道中存在滑移，而产生楔效应，造成接触角误差有4。～6。(当rl／r。愈接近1时，则误差值愈小)，因此，采用测量轴向问隙来控制接触角显然是不合理的。为了消除丝杠或螺母由于椭圆度引起的误差，测量间隙时，应转动丝杠或螺母，在不同圆周角度上分别测出厶径，再求出△径的平均值。测量点的部位应选择在丝杠两端和中间几处。图8是一种专用的测滚珠丝杠副间隙的装置，它适于测试批量大、数量多的丝杠副。测试的精度高，效率也高。测试时，先将砝码置于A的位置，并将千分表刻度指零，然后将砝码从A位置换至B位置，此时千分表上的读数即为间隙值，再根据(8)或(2)式算出接触角的大小。参考文献[1]tCTarrKHHHHeTpyMeHT}1974No．5．【2]"OverhaulManual”for!Boeing10—-2[3]‘B．A．C designing drawinp，“Transmission assy ballScrew”5—”[4]t应用机械工学'1967No．8[5]“转向螺杠滚道与钢球接触角的测量与误差分析”·汽车技术．1982No．11B图8测丝杠副间隙专用装置(编辑和平)．的曲∞曲∞曲oooo々o々寺·的曲々o々o曲·∞々々々々·∞曲神曲oo曲々o∞砷々寺々6々o坤∞々寺神．∞oo‘舀神oo．々o∞∞々o曲曲。夺的∞囤中国机械工程学会召开《二OOO年的中国》研究讨论会根据国务院技术经济研究中心和中国科协的要求，中国机械工程学会于四月二十五日至二十八日在苏州召开了．-000年的中国，机械科学技术的研究工作第一次讨论会。到会的有三十八个单位的七十一名代表，这次讨论会动员有志于机械科学技术预测fi)f究工作的专家学者，发挥智慧和才能，开展t二00 o年的中国，机械科学技术的研究，‘自选课题，提出有科学根据的材料和观点。会上宣读了瞿家骅的“机械工业用材现状调查及展望”、于开泉“水轮机组当前的世界水平与发展趋势分析”、吴继祖的“如何做好国外引进产品的消化工作”、“无损检测技术在机械工业中的展望上一二OOo年规划设想”等论文共三十八篇。、为了动员更多的科技工作者开展《三ooO年的中国，(市转第44页)一2f一它与基本的ARE}If比，高熔点化合物的沉积率较低。(4)采用空心阴极电子枪的ARE工艺。Komiya等人研制成这种工艺，用来沉积TiC薄膜。Zega等人采用冷阴极放电电子枪沉积TiN薄膜。等离子电子枪源可产生ARE工艺中所需要的充足的低能电子。(5)偏压激活反应蒸涂工艺(BiasedActivatedReactiveEvaporation简称BARE)。早期由Bunshah等人研究成功。后来Kobayashi等人重新进行研究，将这种工艺称为反应离子涂层工艺(Rea— ctiveIonPlating，简称RIP)。在这种工艺中，通常在基体上施加负偏压，以便吸引等离子区中的正离子。RIP有两种类型，高压型和低压型。在高压型(即低真空型)中，周围气体压力0．5,一3Pa，利用辉光放电进行离子化：而在低压型(即高真空型)中，周围气体压力小于0．1Pa，利用中间电极、电子辐射、或高频电场产生离子化。高压型离子涂层的缺点是，因为周围的气体压力较高，离子主要在基体材料周围的阴极黑略部分产生加速运动，所以TiC和TiN涂层的粘结强度是较低的。采用低压型时，可获得良好的涂层，具有均匀电位梯度的离子作加速运动，可产生了较高的粘结强度。涂层的性能和粘结强度主要取决于离子化效率和加速电压‘2][”。2．利用电阻加热蒸发源的ARE在基本的ARE工艺中，采用电子来作为加热源，但是当蒸发低熔点高蒸汽压力的材料时，这种加热源价格高，而且使用不方便。Nath和Bunshah采用了电阻加热源，如图所示。电阻加热盘中产生的金属蒸汽与引入真空箱内的气体发生反应，从发热的含钍钨发射器和低压阳极组件I：p射出的低能电子形成的等离子区可增强金属蒸汽与气体发生的反应。3．高熔点涂层的显微组织和硬度利用电阻加热源的ARE工艺过程 j一蒸发源；2一活门；3一磁场线圈：《一发射器：5～屏蔽；6一热电偶；7一基体加热器：8一陶瓷架；9一面}热玻璃箱；】0一高真空抽吸站；11一阳极一44一利用发射电子显微镜(TEM)可发现，在较低的温度下(低于T00"C)形成的TiC涂层，其显微组织申包含很多极细晶粒即直径为10nm(毫微米)的纤维束组织，这些晶粒被一个宽度为lnm的许多空穴组成的细网所隔开，这是第1类区。在较高的沉积温度下(T00。,--,1000℃)，产生一种正常的晶粒(直径为l“m)组织，并且形成某些大晶粒边界空穴，这是第1类区．T，N和Ti。N涂层的晶粒尺寸都比较正常，当沉积温度从550。增大到i000℃时，其晶粒尺寸从0．5肛m增大到20#m。TiC涂层的硬度值较大，当沉积温度为500℃时，硬度值为$000kgf／mm2，而当温度为1000℃时，硬度值为5500kgf／mm2。4．ARE的应用(1)金属表面涂层利用ARE工艺，将TiC和TiN薄膜涂敷在金属表面上，可产生良好的耐粘附磨损、耐磨粒磨损和耐冲蚀磨损性。这些高熔点化合物具有低的摩擦系数(0．2"--0．3)。(2)切削刀具涂层高速钢刀具上涂敷TiC、TiN和HfN涂层，可延长刀具寿命2～8倍，TiC、TiN涂层钻头的寿命可延长20倍左右。(3)装饰品涂层因为TiN涂层具有金黄色，TiN涂层可用于装饰品上，代替电解沉积金。此外，TiN涂层具有良好的耐磨性，即使涂上薄薄的一层，可保证延长装饰品的寿命。TiN涂层装饰品的耐磨性主要取决于基体的硬度。新型的手表壳由钢或铜制成，先涂上一层硬质耐腐蚀的承载层(即电解沉积硬铬)，再涂上一层金黄色的TiN涂层。表带可用同样的工艺涂敷TiN涂层，以保证色彩的均匀性‘”。另外ARE工艺还广泛应用于无线电通讯设备的零件，还可沉积超导体化合物Cu，MoeSa薄膜涂层。邵本逑摘译自：[1]BunshahR．F．：ThinSolidFilms，80(1981)，P．255"-261；[2]英国专利GBA；[3]BunshahR．F．J．Vac．Sci：Techn01．9(1972)，P．1385；[4]BuhlR．：ThinSolidFims，80(1981)，P．265"～270。(上接第27页)机械科学技术的研究和预测，对我国机械科学技术和机械工业发展提出有创见性的建设和意见，中国机械工程学会定于今年八月召开第二次学术讨论会，以便提出有科学依据的材料，供国家决策部门参考。望大家积极撰写有关论文，参加第二次学术讨论会。中国机械工程学会秘书处张润生供稿

文章来源：《长江技术经济》 网址: http://www.cjjsjj.cn/qikandaodu/2020/0904/523.html